在芯片制造过程中,芯片生产主要有三个核心步骤,分别是光刻、刻蚀和沉积,光刻需要光刻机,用来画电路;蚀刻机作用就是根据所画电路来雕刻出有沟壑的3D作品,在晶圆上形成栅极和晶体管。
随着国际上高端量产芯片从14纳米到10纳米阶段向7纳米、5纳米甚至更小的方向发展,当前市场普遍使用的沉浸式光刻机受光波长的限制,关键尺寸无法满足要求,必须采用多重模板工艺,利用刻蚀工艺实现更小的尺寸,使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。
研祥IPC工控机在蚀刻机设备中作为蚀刻机的大脑,配合蚀刻机设备厂家出整体方案,为半导体行业晶圆厂在干法去胶、干法刻蚀等工艺上提供应用方案,涵盖工业级图像处理、高性能计算、HMI友好人机界面等,产品稳定可靠,为半导体的生产厂家提供高效优质的解决方案。

研祥智能IPC-860作为一款4U上架式工业级机箱,整机系统结构采用大功率风扇直接对系统进行散热,具有良好通风散热性能;支持多达4个3.5"抽拉硬盘模组(兼容2个减振硬盘模组);可以配合工业冗余电源或者工业PS2ATX单电源,保证了整机系统的稳定运行;支持EPE工业长卡、EATX服务器主板,既可以满足一般工业领域应用高存储要求的系统需要,也可以满足需要高性能处理能力的场合使用。
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